Halbleiter Fertigung & Handling
Für Sie entwickeln wir kundenspezifische Lösungen in der Standard-, Elektronenstrahl- und EUV-Lithografie. Für den Aufbau Ihres Systems oder für die Integration in Ihre Anwendung. Hierzu bieten wir Systeme zur Strahlformung, Strahlhomogenisierung bzw. -gleichformung und Zoom z.B. Justage für Microstructuring, Stahlen sowie Linsen Maskenpositionierung oder Filtereinstellung.
EUV know-howMaterialauswahl, Nanometer-Beschichtung, angepasste Schmierstoffe / Schmierstoffreiheit, Reinheit | bis 10 Mio. ZyklenLuftlagerung, Lebensdauertests, integrierte Wartungskonzepte / Wartungsfreiheit | 5 NanometerUnd noch höhere Präzision für sämtliche XYZ-Rx-Ry-Rz Bewegungen
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Individuelle Anpassung und Entwicklung Ihrer Innovaiton
- Optimale Positionierlösung für Ihre Anwendung mit einem schnellen, kostenfreien 3D-Entwurf
- Design von Funktionsmustern, Prototypen bis zur Serie
- Integrierte Entwicklung Ihrer Mechanik, Elektronik und Software
Serienfertigung Ihrer Innovation auf > 3.900 m² Produktionsfläche
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